Физические основы и математическое моделирование процессов вакуумного ионно-плазменного напыления

Издательство : 
Машиностроение
Формат: 
DJVU
Год : 
1999

В монографии рассмотрены физические основы и математическое моделирование процессов, происходящих при получении покрытий вакуумным ионно-плазменным методом. Основное внимание уделено процессам транспортировки плазмы металлов в разреженной газовой среде, электрообмену движущейся плазмы с поверхностью твердого тела и кинетике гетерогенного плазмохимического синтеза покрытий из ускоренных плазменных потоков.
На основе новых физических представлений дано объяснение эффекта низкотемпературного синтеза сверхтвердых соединений на поверхности твердого тела. Уточнены классические методики расчета макроскопических констант скоростей реакций хемосорбции, диссоциации и десорбции. Приведен фактический обширный материал по реализации покрытий в промышленности. Монография предназначена для научных и инженерно-технических специалистов, занятых в области получения покрытий, взаимодействия плазмы с поверхностью твердого тела и гетерогенного синтеза, а также для преподавателей, аспирантов и студентов университетов и вузов.